Korkean puhtauden titaaniruiskutuskohteet

Kun tarvitset vakaita, korkean suorituskyvyn{0}}ohutkalvoja puolijohde-, optiseen tai teollisuuspinnoitteeseen, sputteroinnin tavoitelaatu määrää kaiken.

Ti-sputterointikohteet ovat ensisijainen lähdemateriaali, jota käytetään magnetronisputteroinnissa (PVD) puhtaan titaanin, TiN:n, TiAlN:n ja toiminnallisten titaani{0}}pohjaisten kalvojen kerrostamiseen substraateille.

Ti TargetTekniset tiedot

Tuote	Erittely
Materiaali	Kaupallisesti puhdas titaani (luokka 1, luokka 2) tai titaaniseokset
Puhtaus	3N5 (99,95 %), 4N (99,99 %), 4N5 (99,995 %), 5N (99,999 %) puolijohteelle
Tiheys	Suurempi tai yhtä suuri kuin 4,51 g/cm³
Epäpuhtaudet hallinnassa	Fe, Cr, Ni, O, N, C, H (ohjattu puhtausasteen mukaan)
Muodot	Pyöreät, suorakaiteen muotoiset, pyörivät (sylinterimäiset), mukautetut profiilit
Koko	Ø50 – Ø300 mm, paksuus 3-10 mm, pituus: 4000 mm
Liimausvaihtoehdot	Kupari tai alumiini taustalevy, mekaaninen kiinnitys, monoliitti
Pintakäsittely	Koneistettu, hiekkapuhallettu, kiillotettu, happo{0}}puhdistettu, tyhjiöpakattu

Valittavissa olevat Ti-sputterointikohteiden tyypit

Ei.	Materiaali	Koostumus	Tärkeimmät ominaisuudet	Tyypilliset sovellukset
1	CP-titaani (Gr1 / Gr2)	Suurempi tai yhtä suuri kuin 99,5 % Ti	Vähäiset epäpuhtaudet, vakaa sputterointi	Elektroniikka, koristepinnoitteet
2	Erittäin puhdasta titaania (4N / 5N)	Suurempi tai yhtä suuri kuin 99,99 % Ti	Ultra{0}}puhtaat kalvot	Puolijohde-, optiset pinnoitteet
3	Ti-6Al-4V Target	Ti-6Al-4V	Seoskalvopinnoitus, korkea lujuus	Toiminnalliset ja rakenteelliset pinnoitteet
4	TiAl / TiAl₃ Tavoite	30-50 % AI	Tuottaa TiAlN-superkovia-pinnoitteita	Leikkaustyökalut, muotit
5	TiN keraaminen kohde	Ti + N	Tallentaa kullan{0}}värisiä TiN-kalvoja	Kulutuskestävyys, koristepinnoitteet
6	TiSi₂ Target	Ti:Si ≈ 1:2	Matalaresistiiviset silicidikalvot	Puolijohdekoskettimet ja portit

Kuinka titaanitaulusi valmistetaan

Tyhjiösulatus

Poistaa kaasut ja metalliset epäpuhtaudet

Kuumaisstaattinen puristus (HIP)

Poistaa sisäistä huokoisuutta ja parantaa tiheyttä

CNC-tarkkuustyöstö

Takaa mittatarkkuuden ja tasaisuuden

Ultra{0}}puhdas pakkaus

Tyhjiö- tai typpitiivistys estää hapettumisen ja saastumisen

Tämä varmistaa, että saat korkean-tiheyden, alhaisen-hiukkasten ja vakaan ruiskutussuorituskyvyn joka kerta.

Mitä sinun tulee ilmoittaa tilattaessa

Saadaksesi tarkan tavoitteen, jota tarvitset, toimita vain:

Materiaali ja laatu (Ti 99,99%, Ti-6Al-4V, TiAl jne.)
Muoto (pyöreä, suorakaiteen muotoinen, pyörivä, mukautettu)
Koko ja toleranssi (halkaisija × paksuus tai pituus × leveys × paksuus)
Vaaditut puhtaus- ja epäpuhtausrajat
Pintojen puhdistus ja pakkaus
Määrä ja tavoite toimituspäivä
Sputterointijärjestelmän malli ja sovellus

FAQ

1. Mikä on ruiskutuskohteiden toimitusaika?

Vakiokoot: Toimitetaan 2 viikon sisällä

Mukautetut tavoitteet: 2–4 viikkoa koosta, puhtaudesta ja liimausmenetelmästä riippuen

2. Voitko mukauttaa titaaniruiskutuskohteita?

Kyllä. Voit muokata tavoitteitasi täysin, mukaan lukien:

Mitat ja paksuus
Puhtaus ja seoskoostumus
Pintakäsittely ja puhdistustaso
Taustalevy tai asennustapa

3. Missä titaanitaulujasi käytetään

Puolijohteet: johtavat kerrokset, IC-kontaktikalvot
Optiset pinnoitteet:-heijastuksenesto- ja koristekalvot
Teolliset PVD-pinnoitteet: TiN, TiAlN, kulutusta{0}}kestävät kerrokset
Autot, ilmailu ja energia: tehokkaat{0}}toiminnalliset pinnoitteet

Hanki titaanisputterointikohteet luotettavalta valmistajalta

Tarviitpa sittentavalliset titaanimaalittaitäysin mukautetut korkean{0}}puhtaustavoitteet, Baoji Zecheng Metal Materials Co., Ltd. on valmis tukemaan pinnoitusprojektejasi nopealla vastauksella, vakaalla laadulla ja kilpailukykyisellä hinnoittelulla.

Lähetä meille tavoitetietosi jo tänään, niin saat atekninen tarjous ja toimitusaika 24 tunnin sisällä.

📩 Ota yhteyttänyt saadaksesi sputterointikohteet räätälöityiksi PVD-järjestelmääsi varten.

Suositut Tagit: titaanisputterointikohteet, Kiina titaaniruiskutuskohteet valmistajat, toimittajat, tehdas

Titaaniset ruiskuttavat kohteet